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　　光化學(xué)反應(yīng)裝置是依據(jù)光化學(xué)反應(yīng)儀原理制造的，主要用于研究氣相、液相固相、流動(dòng)體系在模擬紫外光、模擬可見(jiàn)光、特種模擬光照射下，是否負(fù)載TiO2光催化劑等條件下的光化學(xué)反應(yīng)。光化學(xué)反應(yīng)儀適合應(yīng)用于化學(xué)合成、環(huán)境保護(hù)及生命科學(xué)等研究領(lǐng)域，該系統(tǒng)技術(shù)合理、結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、操作便捷、運(yùn)行穩(wěn)定、保護(hù)人體。

　　光化學(xué)反應(yīng)儀產(chǎn)品特點(diǎn)：

　　1、采用觸摸式選擇302nm,254nm,365nm等多種紫外光源，配備點(diǎn)樣照明。

　　2、光化學(xué)反應(yīng)儀工作穩(wěn)定，采用開(kāi)門(mén)式暗箱操作，提高實(shí)驗(yàn)精度。

　　3、配套有強(qiáng)磁力攪拌器，可以使反應(yīng)過(guò)程具有強(qiáng)磁力攪拌，充氣，放氣，密封等功能。

　　4、箱體內(nèi)部為黑色，降低光反射，反板有散熱風(fēng)扇，前門(mén)高有觀察窗口。

　　光化學(xué)反應(yīng)儀的損壞，常常伴隨著很多原因，其都有哪些因素，基本有以下幾點(diǎn)原因：

　　1)靜電穿刺

　　光化學(xué)反應(yīng)儀內(nèi)攪拌帶有懸浮物的液體，懸浮物與反應(yīng)劇烈的磨擦，還懸浮物自身也發(fā)作磨擦，多么就發(fā)作很多的靜電荷，高的靜電荷對(duì)反應(yīng)發(fā)作劇烈的穿刺效果，然后招致反應(yīng)點(diǎn)蝕，因此攪拌轉(zhuǎn)速不宜太快。

　　2)機(jī)械損壞

　　光化學(xué)反應(yīng)儀抗沖擊力非常差，任何金屬、硬物對(duì)其停止撞擊均會(huì)招致反應(yīng)破損。因此光化學(xué)反應(yīng)儀運(yùn)用進(jìn)程中謹(jǐn)防任何金屬、硬物失落進(jìn)釜內(nèi)，如遇堵料，必需用塑料棒疏浚，檢修時(shí)蓋好鍋蓋，謹(jǐn)防焊渣凝結(jié)瓷面呈現(xiàn)小坑或爆瓷。

　　3)析氫腐蝕

　　光化學(xué)反應(yīng)儀的夾套在運(yùn)用一段時(shí)間后會(huì)結(jié)垢和生銹，假設(shè)運(yùn)用酸性除垢劑肅清污垢或夾套中的冷卻液偏酸性，都邑招致金屬發(fā)作析氫腐蝕 (Fe+2HCI=FeC12+H2O一部分H原子分散到金屬內(nèi)空穴，連系成}b，這些H：由于反應(yīng)的致密性而不克不及再向外分散，因此當(dāng)Hz聚積到必然的程度，構(gòu)成定的動(dòng)力時(shí)，反應(yīng)就會(huì)發(fā)作分裂。

　　4)加工應(yīng)力損壞

　　在釜體加工進(jìn)程中，由于卷筒、沖壓、焊接發(fā)作很多的內(nèi)應(yīng)力，這些應(yīng)力在光化學(xué)反應(yīng)儀反應(yīng)前應(yīng)*消弭，如消弭不*會(huì)招致反應(yīng)爆瓷。這種損壞常常發(fā)作在投入運(yùn)用后的頭三個(gè)月。所以對(duì)胚體停止熱處置或時(shí)效處置能防止爆瓷。